포토마스크 기술

포토마스크 제조 전문가 및 첨단 마스크 기술과 관련된 연구개발 관련자들을 위한 책



반도체 기술의 전반에 대해서 소개하는 많은 책들이 집필되었다. 일부 책들은 포토리소그래피를 포함하는 반도체 기술의 특정한 영역에 초점을 맞추고 있다. 그런데 포토리소그래피 자체도 광학, 레지스트, 패턴 전사, 그리고 포토마스크(또는 간단히 마스크) 등과 같은 다양한 분야들로 구성되어 있다. 이런 다양한 주제들을 모두 다루고 있는 책들은 여러 종류가 있지만, 포토마스크에 대해서만 다루는 책은 거의 없다.

현대적인 포토마스크의 정교함과 복잡성을 생각할 때, 포토마스크 기술만을 위한 책을 산업계에 제공할 필요가 있게 되었다. 이 책은 그 수요에 대한 답이다.

이 책의 많은 부분들이 광학식 마스크와 그 지원기술들에 대해서 다루고 있지만, 몇몇 단원들은 차세대 리소그래피(NGL)용으로 개발 중인 마스크에 대해서 할애되어 있다. 차세대 리소그래피를 구성하고 있는 네 가지 주제들은 극자외선 리소그래피(EUVL), 전자투사 리소그래피(EPL), 이온투사 리소그래피(IPL), 그리고 X-선 리소그래피(XRL) 등으로, 이 책에서는 이들에 대해서 다루고 있다. 몇몇 절과 단원은 매우 기초적인 내용으로, 마스크 기술에 대한 초심자를 위한 것이다.

이 책은 마스크 사용자들과 칩 제조의 다른 분야에 종사하는 사람들에게도 유용하며, 이 기술의 복잡성을 이해하고 최종적인 칩의 기능과 사양을 희생시키지 않으면서도 마스크 제한조건들을 최적화하기 위해서 그들의 설계와 공정 전문기술을 사용할 수 있도록 도와준다.

제1편 서 론

제1장 마스크 제조의 소개



제2편 마스크 묘화

제2장 데이터 준비

제3장 마스크 묘화장치: 개괄

제4장 e-빔 마스크 묘화장치

제5장 레이저 마스크 묘화장치



제3편 광학식 마스크

제6장 광학식 마스크: 개괄

제7장 일반 광학식 마스크

제8장 진보된 광학식 마스크



제4편 NGL 마스크

제9장 차세대 리소그래피(NGL) 마스크: 개괄

제10장 전자빔 투사 리소그래피용 마스크

제11장 극자외선 리소그래피용 마스크

제12장 이온투사 리소그래피용 마스크

제13장 근접 X-선 리소그래피용 마스크



제5편 마스크 공정, 소재 및 펠리클

제14장 마스크 기층소재

제15장 마스크 제조용 레지스트

제16장 레지스트 충전 및 가열

제17장 마스크 공정

제18장 마스크 소재: 광학적 특성

제19장 펠리클



제6편 마스크 계측, 검사, 평가 및 수리

제20장 포토마스크 형상계측

제21장 광학 임계치수 측정

제22장 주사전자현미경을 사용한 포토마스크의 광 임계치수계측

제23장 SPM을 사용한 마스크의 기하학적 특성화

제24장 영상배치의 계측

제25장 포토마스크용 광학박막의 계측

제26장 위상천이 마스크(PSM)용 위상측정장비

제27장 마스크 검사: 이론과 원리

제28장 마스크 검사장비: Lasertec MD2500

제29장 마스크 영상 평가 장비

제30장 마스크 수리



제7편 모델링과 시뮬레이션

제31장 모델링과 시뮬레이션

약어 색인

찾아보기

Syed Rizvi 저자 Syed Rizvi는

- 학사: Panta Univ.(India)

- 석사: Northeastern Univ.(Boston, USA)

- Texas Instruments, MOSTEK 등 근무

- 계측 및 마이크로리소그래피 분야 다수 논문 발표

- 현재 Nanotechnology Education Consulting Services 사 운영