반도체 공정장비 개론(2판)
본 교재는 반도체 생산 공장에서 운영되고 있는 반도체 장비가 최적의 운영상태가 되도록 하기 위하여 반도체 공정에 대한 전반적인 이해와 장비에 대한 운용·조립하는 업무 등을 수행할 수 있도록 실무 지식 및 기술에 관한 이론과 실습으로 구성된 과목이다.
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출판사 리뷰
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목차
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1.?원?자??
2.?반도체?
3.?세정?
4.?장비의?운영?
??
Chapter?2??산?화(Oxidation)?
1.?산화막의?형성?
2.?산화막의?역할?
3.?산화막의?성장에?영향을?주는?요소?
4.?산화막?성장시에?발생되는?현상?
5.?산화막의?성질?
6.?산화공정에?사용되는?전기로?
7.?LOCOS와?STI?공정?
8.?산화공정?장비?운영?
?
Chapter?3??사진공정(Photolithography)??
1.?사진공정이란??
2.?사진공정의?과정?
3.?노광?장치의?인쇄기법?
4.?트랙?장치의?구성?
??
Chapter?4??식각공정(Etch)?
1.?식각공정?
2.?습식?식각?
3.?식각?공정?관련?전문용어(terminology)?
4.?건식?식각?
??
Chapter?5??확?산(Diffusion)?
1.?불순물?주입?
2.?Diffusion?
3.?Ion?Implantation?
4.?Plasma?Doping?
??
Chapter?6??증?착(Deposition)?
1.?증착?
2.?PVD?
3.?CVD?
4.?ALD?
5.?Metalization(금속배선공정)?
??
Chapter?7??집적화(Integration)?
1.?CMOS?제조?공정?
저자
저자
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